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核徑跡防偽技術(shù)介紹
根據(jù)用戶要求的圖案通過成像技術(shù)采用原子能核反應(yīng)堆輻照，在薄膜上形成圓柱狀微米級微孔，微孔密度每平方厘米40-200萬個，微孔在平面上按統(tǒng)計規(guī)律分布，微孔斜度30-50度，孔道具有良好的透氣、透水性能。通過特殊工藝將薄膜與基材復(fù)合，再經(jīng)過印刷而制成客戶要求的防偽標(biāo)識。
核徑跡防偽技術(shù)，清華大學(xué)核能技術(shù)設(shè)計研究院與廣州傾松數(shù)碼科技有限公司合作生產(chǎn)的核徑跡防偽標(biāo)識。 是根據(jù)用戶要求的圖案通過成像技術(shù)采用原子能核反應(yīng)堆輻照，在薄膜上形成圓柱狀微米級微孔，微孔密度每平方厘米40-200萬個。
核徑跡防偽的特點(diǎn)
1、核徑跡膜的生產(chǎn)必須使用原子核反應(yīng)堆等國家?？卮笮秃嗽O(shè)施，國內(nèi)只有極少數(shù)幾個在國家控制下的核研究單位擁有這樣的設(shè)備，是任何個人和團(tuán)體不可能擁有的。目前國內(nèi)唯有清華大學(xué)核能技術(shù)設(shè)計研究院的核反應(yīng)堆具有生產(chǎn)核徑跡膜的能力。高度壟斷決定一般企業(yè)不可生產(chǎn)性。核徑跡防偽生產(chǎn)是占有獨(dú)性的 。核徑跡防偽標(biāo)識的生產(chǎn)，還需要核物理、化學(xué)、電子、機(jī)械、光學(xué)等多學(xué)科的共同參與才能完成。
2、核徑跡防偽標(biāo)識圖案是由每平方厘米幾十萬到幾百萬個微米級微孔組成，具有“微觀設(shè)密宏觀顯示”的特點(diǎn)，使不可見的幾百萬個像素集合“放大”成為可見的宏觀圖案。微孔密度、微孔斜度、孔徑及分布規(guī)律，形成了嚴(yán)格的密碼信號，是仿造者根本無法逾越的障礙。核徑跡防偽標(biāo)識其特有的微孔分布規(guī)律，圓柱形微孔孔道具有的散射角，及其分布規(guī)律，使得防偽標(biāo)識在顯微鏡下可以清楚地識別出是否為核反應(yīng)堆加工，實(shí)現(xiàn)了專家識別和大眾識別相結(jié)合的防偽目的。防偽圖案是不可仿造的 。
3、核徑跡防偽產(chǎn)品安全評價報告，清華大學(xué)核能技術(shù)設(shè)計研究院生產(chǎn)的核徑跡防偽膜經(jīng)各級權(quán)威部門測試，符合國家“GB4792-84”放射衛(wèi)生防護(hù)標(biāo)準(zhǔn)，放射水平為本底膜水平?？梢宰鳛槭称?、藥品等各類產(chǎn)品的包裝。上較廣，隱形文字、圖案多用于防偽技術(shù)。
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